Obrzutka tynkarska – szpryc cementowy szary CX-T510

Zastosowanie

Do maszynowego wykonywania obrzutki wstępnej (szprycu) lub podkładu o wytrzymałości na ściskanie kategorii CS IV pod cementowe, cementowo-wapienne i wapienne wyprawy tynkarskie, wewnątrz i na zewnątrz budynków. Zalecany jako podkład pod tynki ręczne i maszynowe CEMEX. Tynk można narzucać również ręcznie. Uziarnienie do 1,6 mm.

Rodzaj podłoża

Przygotowanie podłoża

Podłoże musi być czyste, nośne, suche oraz wolne od zanieczyszczeń, pyłu i tłustych plam. Stare i mocne tynki oczyścić z warstw malarskich, szczeliny poszerzyć, ubytki i nierówności uzupełnić zaprawą wyrównawczą CEMEX CX-Z730. Słabe tynki wzmocnić gruntem głęboko penetrującym CEMEX CX-G880, bardzo nasiąkliwe gruntem do chłonnych podłoży CEMEX CX-G750. Suche podłoże przed obrzutką wstępną zamoczyć obficie wodą.

Sposób użycia

Tynk narzucać dostępnymi na rynku agregatami tynkarskimi z pojedynczą komorą mieszania na całe podłoże przewidziane do obrobienia w ciągu jednego cyklu roboczego. Przy narzucie ręcznym zawartość worka wymieszać z podaną na opakowaniu ilością czystej, chłodnej wody do uzyskania jednorodnej mieszaniny i założonej konsystencji. Obrzutki nie wyrównywać i nie zagładzać. W przypadku wykonywania podkładu, po narzuceniu ściągnąć tynk łatą typu H, wyrównując całą powierzchnię.

Dane techniczne

Skład: mieszanina cementu, wapna i piasku oraz dodatków mineralnych i domieszek.
Gęstość nasypowa	ok. 1,6 kg/dm³
Właściwa ilość wody *	ok. 6 dm³/30 kg ok. 0,2 dm³/kg
Czas zużycia	ok. 1 godz.
Czas przerwy w tłoczeniu świeżego tynku	do 30 min.
Absorpcja wody	≤ 0,2 kg (m² x min^0,5)
Przyczepność	≥ 0,25 MPa
Reakcja na ogień	klasa A1
Zawartość chlorków	≤ 0,1% Cl
Uziarnienie	do 1,6 mm
Wydajność	ok. 220 dm³ z 30 kg ok. 0,73 dm³ z 1 kg
Zużycie	ok. 1 kg/m²/mm
* Przy narzucie mechanicznym – ustalić doświadczalnie dla każdego typu agregatu

Na wyrób wystawiono deklarację zgodności.
Dokument odniesienia: PN-EN 998-1:2012.
Posiada atest PZH.
PKWiU: 23.64.10.0.
Zawartość chromu (VI) rozpuszczalnego w wodzie poniżej 2 ppm.